椭偏在线监测装备

针对LCD、OLED等新型平板显示量产中所涉及的PI配向膜、光刻胶薄膜、ITO薄膜、有机发光薄膜、有机/无机封装薄膜等质量控制需要，专门设计的在线薄膜测量系统。可适用于空气、N2、真空等环境条件，自动实现玻璃基板上各种膜系结构厚度分布。
特点
■无破坏及高速的检测
■膜厚测量:能准确的确定半导体制造工艺中的各种薄膜参数和细微变化,包括复杂多层薄膜结构
■OCD测量:可以进行显影后检查(ADI)刻蚀后检查(AEI)等多种工艺段的二维或三维样品的线宽、侧壁角度(SWA).高度/深度等关键尺寸(CD)特征或整体形貌测量。可测量二维多品硅批极刻蚀(PO)隔离槽(STI)隔离层(Spacer)双重曝光(Double Patterning)或三维连接孔(VIA)、鳍式场效应晶体管（FinFET),闪存(NAND)等多种样品。
■使用自主开发的最新一代穆勒矩阵式膜厚&OCD 测量头,考虑被测对象的各向异性,提供测量的灵敏度
■支持 SECS/GEM 产线互联标准